近日市场有消息称联电计划投资逾1000 亿元新台币在新加坡建设第二座12英寸晶圆厂,月产能至少2万~3万片,或生产40nm以下制程的芯片。据钜亨网报道,联电对此回应称,新加坡本来就有设厂,在全球有据点的地方持续评估建厂规划,不过目前还没有确切地点。据了解,联电新加坡厂Fab 12i位于白沙晶圆科技园区,于2004年开始量产,月产能为5 万片,制程为0.13微米至40nm,产品涵盖FPGA、无线通讯

近日上海微电子举行新产品发布会,宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。目前,上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议,首台将于年内交付。光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术,集成电路就是由投影曝光装置制成的,将具有不同掩模图案的图形成像至基底上,制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板,或微机电等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展,满足了更小线条尺寸,更大曝光面积,更高可